全自動步進重復式激光干涉光刻機

全自動步進重復式激光干涉光刻機VIL 1000納米光刻系統(tǒng)具有全自動光路重構(gòu)、動態(tài)鎖相、高精度步進重復曝光等強大功 能。上述功能均通過我們自主研發(fā)的控制軟件輕松實現(xiàn)。在放置旋涂好光刻膠的 晶圓后，無需任何手動設置或調(diào)整，我們的自動化系統(tǒng)可以在2 cm×2 cm的曝光區(qū)域內(nèi) （曝光區(qū)域還可定制其他尺寸及形狀）實現(xiàn)納米尺度的一維光柵或二維陣列的加工。所制 備納米結(jié)構(gòu)的周期涵蓋240 nm到1500 nm的區(qū)間范圍，可滿足絕大部分對納米結(jié)構(gòu)的需 求。通過高精度的步進重復式曝光系統(tǒng)，VIL 1000系統(tǒng)還可以在高達8英寸的晶圓襯底上 進行納米圖案的“拼接"工藝，實現(xiàn)晶圓級納米加工。其中每個“拼接"區(qū)域的納米圖案 都可由LithoPro單獨設置，包括周期、晶格和特征尺寸等參數(shù)。VIL 1000系統(tǒng)可選配的升 級模塊還包括紫外接觸式曝光、特征尺寸調(diào)制及光刻工藝仿真等。 VIL 1000 納米光刻系統(tǒng)非常適合在同一晶圓襯底上分區(qū)域加工不同納米結(jié)構(gòu)的應用，比如 AR表面浮雕光波導等。此外，該系統(tǒng)也非常有利于快速加工大面積納米結(jié)構(gòu)，實現(xiàn)納米器 件的設計參數(shù)到試產(chǎn)驗證的快速迭代。

v> 步進重復式曝光 標準配置的 VIL 1000 納米光刻系統(tǒng)支持在 4 英寸晶圓上進行步 進重復式曝光，每個獨立的曝光區(qū)域面積可高達 通過 升級的更高配置的工件臺，最大“拼接"范圍可進一步擴展到 6-8 英寸晶圓。

 全自動化參數(shù)設置 全自動的快速可重構(gòu)光路模塊和多軸精密工件臺系統(tǒng)助力于制造具有 不同周期和幾何形狀的納米圖案，包括一維線柵和納米點、孔、棒、 棋盤格等二維陣列。

 特征尺寸調(diào)制 / 紫外接觸式曝光模塊 VIL 1000 納米光刻系統(tǒng)可以選配特征尺寸調(diào)制模塊。通過精密調(diào) 制光刻納米結(jié)構(gòu)的占空比，該模塊可提高單次曝光區(qū)域內(nèi)的納米 圖案均勻性，也可用于實現(xiàn)經(jīng)過特定設計的特征尺寸的空間調(diào)制。 此外，VIL 1000 系統(tǒng)還支持選配紫外接觸式曝光模塊，使該系統(tǒng) 可適用于更廣泛的應用